拓荆科技的产品怎么样？
作为一家研发生产半导体专用设备的企业，可能很多人会不太熟悉这个品牌，但其实拓荆科技在业内已经是深耕了二十余年的老企业了（2001年便开始组建团队），只是直到近几年才迎来发展机会，凭借先进的技术、高质量的产品和服务成功打入国际市场并获得了客户的广泛认可。
目前公司产品主要包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、薄膜沉积前处理装置及单/多晶硅切片机三大类，适用于光学器件、微电子行业和太阳能产业等领域。特别是PECVD设备，可以生成高性能的SiO2绝缘涂层和低损耗的高密度驱动IC用TiN金属镀层，满足客户对于超薄壁厚和高精密结构件加工的需求；另外，利用独特的工艺，该设备还可进行Coating+Lithography一次性成型的365nm光刻工艺，实现对光掩膜的替代，满足前沿技术领域的要求。
值得一提的是，虽然公司的产品以中端为主，但部分产品的性能可与海外巨头相媲美。以PECVD设备为例，与泛林集团（VELP）和苏黎世机床（ZURICH)相比，在同样的制程条件下，拓荆科技生产的介质膜厚度更薄（5.8nm vs 7.8nm），且均匀性更好（<1nm）。
在产品性能不断获得行业认可的同时，拓荆科技也在积极扩产，预计到今年年底产能将同比提升40%左右，为接下来的业务拓展奠定更好的基础。